真空爐中的溫度分布

 真空爐中的溫度分布

　石墨棒加熱元件布置在加熱室兩側(cè)的布置法,特別適于高真空爐。在高真空氣氛中,由兩側(cè)加熱元件產(chǎn)生的熱輻射區(qū)能夠?qū)ぜM行均勻地加熱。當(dāng)爐溫在400—1300℃時,加熱區(qū)各點溫差可達±5 K。 60年代以前,溫度控制一直是熱處理技術(shù)中的主要問題之一。后來由于采用了電子溫控技術(shù),這個問題已經(jīng)解決。目前,從溫度分布的角度來看,熱區(qū)溫度分布的精度是重要問題。我們幾乎總是要優(yōu)先考慮力求在結(jié)構(gòu)上能保證獲得溫度均勻的熱區(qū),至于由于某種原因使熱區(qū)出現(xiàn)暫時性的溫度不均勻現(xiàn)象也會隨保溫時間的延長而消失。反之,溫度較高或較低的熱區(qū)會使它的有害影響貫穿于熱處理的始終。下面我們介紹在這方面卓有成效,溫度梯度低于0.01K/cm的真空爐結(jié)構(gòu)。 真空爐除了具有溫度均勻性外,還有其它一些優(yōu)點。耗能少,完全避免使用有毒材料,加熱、材料放氣產(chǎn)生煙塵對環(huán)境的污染、完滿地解決了材料表面氧化或畸變問題。由于有這些優(yōu)點已使真空爐成為現(xiàn)時熱處理工藝中不可少的條件。 真空中的傳熱 從傳熱來看,真空起到雙重作用。